電子材料プロセス研究室

現代のほとんどすべての電子デバイス作製に、薄膜（はくまく）技術が貢献しています。光・電気など様々な信号の制御には異種材料の界面が必要ですから、ある材料の上に別の材料を積み重ねる技術が必要です。私たちは、減圧環境下でプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンを固体にぶつけて原子分子を叩き出す「スパッタリング」という製膜手法について研究しています。叩き出された原子が、デバイスとなる物質の表面に降り積って膜となるわけです。
スパッタリングは工業的に非常に広く利用されている、成熟した成膜技術です。しかし、デバイスがより高度化するにつれて、より硬い膜を、酸素が微妙に欠損した酸化物膜を、温度や電流注入によって色が変わる膜を、超高真空中で気体を吸着して放出しない膜を、生体親和性の高い膜を…など、様々な性質を持つ薄膜が要求され続けています。それらをより良く作る技術を確立することが、私たちの目標です。
成膜プロセスを原理から深く理解し、装置に新たな工夫を加え、より良い薄膜を作製する研究を行っています。私たちの成果は、様々な分野の研究者との学際的な共同研究によって、広い範囲の産業分野に貢献しています。

３年生の後期から研究室に配属されると、輪講で分野の基礎的なテキストを読み、薄膜工学の基礎について学びます。また卒業研究に関連したテーマでいくつか実験を行い、輪講で学んだ現象を実際に計測・評価して、内容についての理解を深めます。
４年生になったら研究テーマを決めて、文献調査、実験手順のマニュアル、整理した結果やそれに対する考察などを、二週間に一度程度の頻度で発表してもらいます。またその内容は数ページのレポートとして整理してももらいます。これが集積すれば、自動的に卒業論文ができあがる…というイメージです。
大学院生はもちろん、４年生でも、積極的に他大学との交流会や、学会における発表をしています。自分の結果を整理したり、研究の意義を明確化するために、これらの活動は大変良いきっかけとなります。もちろん発表にかかる費用はすべて研究室がサポートします。
卒業時に完成する卒業論文、修士論文は、研究室に配属されたばかりの３年生から見ると、「これは凄い、自分には絶対無理だ」というレベルになります。１年半のトレーニングによって、そこまで成長してもらうことが、研究室での大きな目標です。